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磁控溅射光学镀膜设备
磁控溅射光学镀膜设备配置以GVAC自主开发的孪生旋转靶结构和布局,克服阳极消失和靶面打火现象,采用公自转方式传动,在手机、平板、车载显示等3C产品的盖板、中框、后盖上镀制减反、增硬、颜色膜层等光学膜层。
金石东方开发的专用设备可应用在半导体基材上面沉积金属层或者化合物层的连续镀膜设备等。主要用于大面积,高洁净度的玻璃等表面磁控溅射高质量、多功能的金属膜、防干扰电磁屏蔽膜(EMI)、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)、减反射膜(AR)、增反射膜等。