磁控溅射光学镀膜设备

一、产品规格

　　1、设备型号：GVV1800.4、其他定制尺寸

　　2、镀膜工件：玻璃、钢化玻璃等

　　3、镀膜材料：金属、合金、金属化合物

　　4、镀膜方式：磁控溅射镀膜、AF镀膜、离子源清洗、等离子体清洗

　　5、PLC+触摸屏/手动、半自动、全自动一体化

　　6、公自转传动

　　7、镀膜室极限真空度≤1E-4Pa、

　　8、真空系统：机械泵+罗茨泵+维持泵+分子泵

　　9、单开门

　　10、按照GB11164真空镀膜机通用技术条件执行

二、产品描述

　　磁控溅射光学镀膜设备配置以GVAC自主开发的孪生旋转靶结构和布局，克服阳极消失和靶面打火现象，采用公自转方式传动，在手机、平板、车载显示等3C产品的盖板、中框、后盖上镀制减反、增硬、颜色膜层等光学膜层。控制方式采用触摸屏+PLC的全自动一体化操作，操作简便。单体镀膜机集合等离子清洗、离子源清洗、磁控溅射镀膜、AF镀膜等多功能为一体，具有提高生产效率，增大产量，占地面积小，设备成本较低等优势。

　　应用领域：手机盖板、手机中框、手机背板、3C产品、车载显示、汽车水晶挡板