立式光学玻璃磁控溅射镀膜生产线

一、产品规格

　　1、玻璃尺寸：常规尺寸：1250×2500mm、最大尺寸：1830×3000mm、支持定制

　　2、阴极数量：ITO：4~12、AR：5~18、可根据客户需求定制

　　3、周期时间：最短周期：60s、常规周期：80~120s

二、产品描述

　　金石东方开发的专用设备可应用在半导体基材上面沉积金属层或者化合物层的连续镀膜设备等。主要用于大面积，高洁净度的玻璃等表面磁控溅射高质量、多功能的金属膜、防干扰电磁屏蔽膜（EMI）、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)、减反射膜（AR）、增反射膜等。