功能性膜层磁控溅射镀镀膜设备

一、产品规格

　　1、设备型号：GVV1300、GVV1600、GVV1800、其他定制尺寸

　　2、镀膜工件：PC，PET，PPS，ABS，PMMA，陶瓷，玻璃等

　　3、镀膜材料：金属、合金、金属化合物

　　4、镀膜方式：等离子轰击清洗、磁控溅射镀膜

　　5、PLC+触摸屏/手动、半自动、全自动一体化

　　6、公自转传动

　　7、镀膜室极限真空度≤1E-4Pa

　　8、真空系统：机械泵+罗茨泵+维持泵+分子泵

　　9、单开门、双开门：提高利用率

　　10、按照GB11164真空镀膜机通用技术条件执行

二、产品描述

　　GVAC开发了用于功能性膜层的镀膜设备，结合等离子清洗和磁控溅射镀膜满足客户不同的功能需求。

　　该系列设备可用于小型或异形基材的金属膜、防干扰电磁屏蔽膜（EMI）、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)等的镀制。设备采用定制工件夹具，应用公转+自转传动方式，使膜层沉积更加均匀。

　　应用领域：电子元器件、特种纤维、半导体、陶瓷金属化、零部件、塑胶模具等